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加工・製作

理学研究科 [S-25]アークプラズマガン成膜装置 APD-2P特

アークプラズマガン成膜装置 APD-2P特
保有部局 理学研究科
設備等番号 S-25
設備等名称 アークプラズマガン成膜装置 APD-2P特
メーカー アルバック理工㈱
購入年月 2015.3.30
設置場所 理学6号館557
仕様・特徴

パルス真空アーク放電を利用したナノ粒子/薄膜形成装置です。粉体や基板上に粒子/薄膜の形成が可能です。
パルス真空アーク蒸着は、シンプルなプロセスで金属イオンを生成し、極薄膜やナノ粒子を形成する手法です。
膜の平坦性、微粒子の形成など、他の蒸着法では得られない効果を得ることが可能です。
利用可能元素は伝導性のあるものに限られます。
ご利用には、既定のサイズのバルクターゲットのご準備をお願い致します。詳細は別途ご相談ください。

問合せ先 理学研究科化学専攻 前里
maesato.mitsuhiko.5e@kyoto-u.ac.jp